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परिसर ऑक्साइड फिल्मों की पतली epitaxial विकास के लिए atomically परिभाषित टेम्पलेट्स
Chapters
- 00:05Title
- 01:15Atomically Smooth, Singly Terminated Dysprosium Scandate Surfaces
- 03:46Seed Layers of Nanosheets on Arbitrary Substrates
- 06:43Results: Characterization of the Templates
- 08:21Conclusion
विभिन्न प्रक्रियाओं जटिल ऑक्साइड पतली फिल्मों का epitaxial विकास के लिए atomically परिभाषित टेम्पलेट्स तैयार करने के लिए रेखांकित कर रहे हैं। एकल क्रिस्टलीय SrTiO 3 (001) और DyScO 3 का रासायनिक उपचार (110) substrates के atomically चिकनी, एकल समाप्त कर सतहों प्राप्त करने के लिए प्रदर्शन किया गया। CA दो नायब 3 ओ - 10 nanosheets मनमाना substrates पर atomically परिभाषित टेम्पलेट्स बनाने के लिए इस्तेमाल किया गया।
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Epitaxial GrowthComplex Oxide Thin FilmsAtomically Defined Substrate SurfacesSrTiO3 (001)DyScO3 (110)Wet EtchingAnnealingSingle Terminated SurfacesHeteroepitaxial GrowthPerovskite Oxide Thin FilmsLangmuir-Blodgett DepositionNanosheetsCa2Nb3O10- NanosheetsLayered Parent Compound HCa2Nb3O10Seed LayersArbitrary Substrates
