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Chapters
- 00:05Title
- 01:37Preparation of Silica Nanoparticles for Deposition
- 02:23Preparation of the Vacuum System
- 02:47Plasma Deposition Process
- 04:27Preparation of Hollow Particles by Dissolution of Core Material
- 05:36Characterization of Permeability (Rate of Core Release)
- 06:56Results: Plasma Polymerized Hollow Particles
- 08:40Conclusion
Usámos plasma melhorada deposição de vapor químico para depositar películas finas que variam de um nm poucos a vários 100 nm sobre nano-partículas de vários materiais. Nós subsequentemente etch o material do núcleo para produzir nanoshells ocos cuja permeabilidade é controlado pela espessura da casca. Nós caracterizar a permeabilidade destes revestimentos para solutos pequenas e demonstram que estas barreiras podem proporcionar uma libertação sustentada do material do núcleo durante vários dias.
Tags
EncapsulationPermeability CharacteristicsPlasma Polymerized Hollow ParticlesCore-shell NanostructuresPlasma Enhanced Chemical Vapor DepositionAmorphous BarrierPlasma PolymerizationIsopropanolSolid SubstratesSilicaPotassium ChlorideNanoparticlesNanopowdersFilms ThicknessDissolution Of The CoreDiffusion CoefficientKCl NanocrystalsIonic ConductivityEncapsulation And Delayed Release Of SolutesShell ThicknessRate Of Release
