本文提出并讨论了原位制造核酸微阵列的合成和应用的新进展。具体来说,我们展示了DNA合成的规程如何扩展到RNA,以及如何利用微阵列创建可检索的核酸库。
光刻学是合成玻璃玻片上DNA寡核苷酸的有力技术,因为它结合了磷酰胺石耦合反应的效率与微米大小的反射镜反射的紫外线的精度和密度。光刻成像产生微阵列,可以容纳从几十万到数百万个不同的DNA序列,100nt或更长,只需几个小时。有了这个非常大的序列空间,微阵列是探索核酸-配体相互作用机制的理想平台,在RNA的情况下特别相关。我们最近报告了一组与原位光刻相容的RNA磷酰胺石的制备,随后用于生长RNA寡核苷酸、同质聚合物以及混合基序。在这里,我们详细介绍了RNA微阵列制造的过程,从实验设计到仪器设置、阵列合成、解保护以及最终杂交测定,使用模板25mer序列,包含所有四个碱基。同时,我们超越了基于杂交的实验,利用微阵列光刻作为进入复杂核酸库的廉价网关。为此,高密度DNA微阵列被制造在基体敏感的单体上,使DNA在合成和脱保护后能够方便地被提取和检索。对制造方案进行了优化,以限制合成误差的数量,并为此引入了一层β-胡萝卜素溶液来吸收紫外线光子,否则这些光子可能会反射回合成基板。我们逐步描述了图书馆准备的完整过程,从设计到裂解和量化。
DNA微阵列的实用应用历来是研究两个细胞群之间基因表达水平的变化,使用互补链和荧光作为检测方法1。有时,DNA微阵列冒险进入结合事件与非核酸配体,如蛋白质,与系统序列排列的策略,提供结合景观2,3的全面概述 4,5.这种方法有效地将微阵列从单纯的杂交表面转变为具有广泛序列覆盖的平台,这将是研究更丰富、更复杂的RNA结构和功能世界的资产。在极高效的磷酰胺耦合反应6的支持下,原位合成DNA阵列现在也可以被视为DNA 7的廉价来源,考虑到对DNA7日益增长的需求,这种DNA阵列正变得尤为重要。核酸材料用于基因组装8、9、基于DNA的纳米结构10、信息存储或测序11、12。同样,测序技术可能受益于产生RNA寡核苷酸13非常复杂混合物的方法的开发。在此背景下,允许原位和高密度合成寡核苷酸的阵列制造协议是理想的,以满足迅速扩大的核酸生物技术领域的需要。然而,在生物技术等不同领域,每种应用的目的都可能需要在高通量或合成误差极低的14、15或两者同时产生微阵列上的DNA,这需要仔细观察DNA微阵列的合成方案,从历史上看,这些方案主要针对杂交测定进行了优化。同时,RNA微阵列的原位合成被发现是一项具有挑战性的工作,与2′-OH功能的保护组相关的大多数困难,通常是标准固相合成中的硅基,与氟基试剂,与玻璃或硅表面不相容的化学品。这些问题和挑战在DNA和RNA微阵列合成最近一直是大量工作的主题,特别是光刻学方法16。
光刻学使用紫外光在耦合前疏通寡核苷酸,并要求蒙版构建紫外线照射模式,从而在空间上组织和控制寡核苷酸的生长。物理面罩已被计算机控制的微镜所取代,微镜的倾斜选择性地将紫外线反射到微阵列基板17、18、19上。作为紫外线源,我们使用来自高功率LED光源20的365nm光。目前的光刻设置配备了微镜阵列,包含 1024 × 768 反射镜,对应于 780,000 多个可单独寻址点(“功能”),面积仅为 1.4 cm 2,或1080p,阵列为 1920 × 1080,或>200 万面镜。因此,器件中的每个镜像都直接控制了相应功能上生长的序列。除紫外光外,光刻成像功能类似于固相合成技术,采用循环磷酰胺化学。只有它需要完全不同的保护策略,RNA合成才能成功。我们开发了一系列新的光敏RNA磷酰胺,其携带氢化物保护组21。这些单体允许在不影响表面完整性的温和条件下对RNA进行脱光保护。第一个去保护步骤使用三乙胺去除氰化物磷化物保护组,而氢化物用于第二,单独的步骤,以去除那些在2′-OH和外生胺功能。这样,RNA寡核苷酸长度为30-nt,任何序列现在可以在微阵列22、23上原位合成。与此同时,我们最近也开始着手解决DNA和RNA光刻学的吞吐量、质量和速度问题。我们测量了所有DNA和RNA中环石的耦合效率>99%(图1),并调查了寡核苷酸伸长周期中的每一个步骤,从氧化时间到活化剂的选择和最佳紫外线照射24,25.我们引进了新的感光5’保护组,只需几秒钟即可去除,将数十万个100个生物的合成转化为几个小时的过程26。我们还通过同时暴露两个基板27,使阵列制造的产量增加了一倍。最后,我们介绍了一种含有基敏的苏基基基基基基基基基基基基基基的聚酰亚胺石,作为切块、收集和分析DNA和RNA寡核苷酸的便捷方法,这是库制备28的核心。
尽管DNA和RNA固相合成相对平凡,特别是对于核酸化学家来说,微阵列光刻学仍然是一个非同寻常的升级,需要复杂的设置、仔细的控制和监督过程,以及根据寡核苷酸的性质和应用类型,分别说明合成后处理。在本文中,我们希望详细介绍通过光刻法(从实验设计到数据分析)DNA和RNA微阵列原位合成的整个分步过程,重点是仪器和消耗品。然后,我们描述了符合微阵列制造预期目的(即杂交或核酸库恢复)的合成后脱保护方法。
固相DNA和RNA合成是每个核酸化学实验室的面包和黄油,尽管光刻学成分的添加被认为是一个复杂的操作,但由紫外光介导的微阵列制造也是一个非常可靠的过程.此外,它是微阵列上原位RNA合成的唯一可用方法。然而,正如在任何多阶段实验过程中一样,人为错误的空间也十分充足。
也许最关键的步骤是磷酰胺的耦合,因为它需要持续高产量的化学反应,才能承受很少合成误差的寡核苷酸。在我们的微阵列合成协议中,磷酰胺石耦合对于整体合成质量更为重要,因为制造过程绕过了封顶,防止了寡核苷酸纯化。对所有感光DNA和RNA磷酰胺石计算了超过99%的步进耦合效率,即使非常短的耦合时间(15 s)24,但偶尔也会出现较低的耦合率,特别是在dG酰胺石的情况下。在室温下溶解磷酰胺的稳定性已经研究过,并证明取决于核碱的性质,仅几天时间,就容易大量降解的葡素磷酰胺。 30.但是,当储存在-25°C时,dG磷酰胺在ACN中溶解,因为30 mM溶液在几周内保持稳定。然而,在室温下,dG磷酰胺溶液的相对不稳定性意味着它们不应在DNA合成器上连接数天。
对于RNA磷酰胺,耦合产量非常依赖于磷酰胺石的质量(可以通过31P NMR光谱法评估)和耦合时间。rA、rG、rC 和 2 分钟为 rU 的耦合时间为 5 分钟。事实上,我们发现,将所有RNA磷酰胺的冷凝时间缩短到2分钟,可显著降低杂交信号。
DNA合成器本身,以及试剂和溶剂,当然需要尽可能清洁,以实现寡核苷酸合成的最高产量。然而,不溶性物质、盐或颗粒会随着时间的推移在输送系统的管材和管中积累,导致试剂和反应物的消耗逐渐减少。如果对合成器进行一般清洁不能解决低输出体积,则增加脉冲数量可能是另一种解决方案。在低磷酰胺石消耗的情况下特别有用,耦合协议中对应于磷酰胺和活化剂混合物的泵送的线路(表1和表2中耦合子节的第三行)可以修改,从6到9脉冲,对合成质量没有任何明显的负面影响。此外,将甲胺石/活化剂混合物引入合成基板所需的活化器脉冲数(目前耦合子节中的 6,第四行,见表1和表2)取决于 DNA 合成器本身以及合成细胞中的管长度。在用彩色溶液替换磷酰胺石并计算将彩色混合物推到玻璃基板以进行耦合所需的脉冲数后,可以调整此数量。
本文所述方法允许DNA和RNA合成在同一微阵列上同时进行。DNA 和 RNA 的杂交也可以在不改变阵列制造协议的情况下制备,只要遵循三步消除保护协议。然而,应该指出,仅RNA微阵列只需要两步去保护:先用E3N进行去异化,然后是羟基和基底脱保护。DNA核碱在这些条件下被发现不完全解除保护,需要在EDA中加入额外的步骤,以便完全去除苯乙酰(Pac)组。这种EDA的额外治疗比DNA微阵列31的标准去保护短(5分钟),但它足以推动它完成三乙胺和氢化物治疗后。此外,EDA反应时间短,可限制完全脱光的RNA寡核苷酸在基本条件下的暴露。
与替代方法(如斑点或 DNA 转录 32、33、34)不同,原位RNA阵列合成的优点是能够将合成的RNA微芯片以受保护的形式存储,直到使用,从而避免了潜在的RNA降解风险。另一方面,RNA的合成后程序确实意味着消耗品和试剂保持无菌状态,并且处理是在无RNA酶条件下进行的。值得注意的是,我们发现在杂交混合物中添加RNase抑制剂并没有为RNA特征产生更强的杂交信号。
在基敏单体上合成DNA库比合成表面上的一些控制序列更为复杂,因此当然更容易出现设计错误。但是,假设序列设计(即序列的性质和数量)是正确的,则将此列表转换为曝光掩码集合和有序的一系列耦合周期仍然是一个简单明了的过程。然而,标准微阵列合成存在重要差异,对于高密度库阵列的成功制造至关重要。
首先,基敏dT单体在合成链接器后作为第一磷酰胺石耦合。发现该单体(图1)的耦合收率相对较低,约为85%28,这就是为什么努力提高其加入率的原因,要么将其在ACN中的浓度从30mM提高到50 mM,或者通过重复耦合步骤:使用新鲜单体进行两次连续耦合反应,或两个独立但连续的耦合循环。
第二个变化是在合成细胞的后室中加入β-胡萝卜素溶液,方便地吸收365nm光。这是光刻设置的重要修改,因为它可以防止紫外线反射回阵列基板。事实上,在穿过基板之间的间隙介质后,进入的紫外线会穿过钻孔的滑道,到达电池的石英块。菲涅尔方程预测,4%的垂直相射紫外线将从三个下游空气玻璃接口(第二基板的出口侧和石英块的两侧)反射到合成基板上,导致意外曝光有光保护的寡核苷酸。衍射和散射也有助于”偏离目标”的光解保护,因此,对核苷酸的插入,直接影响合成的误差率,但这些贡献比反射小得多,主要可以通过降低合成密度(在特征之间留下间隙)。我们发现,在细胞下腔的β-胡萝卜素溶液水平仅在阵列合成的最初几分钟内才会略有下降,因此需要进行监测和重新调整。
最后,第三个变化是去保护解决方案,取代EtOH的肌胶烯,保持切块DNA库绑定到表面,大概是通过静电相互作用。在ACN洗涤后,将少量水涂到合成区,方便地收集库。然而,只有当EDA和苯基中的含水量极小时,这个过程才会成功,使核酸完全不溶于解保护鸡尾酒。或者,DNA库可以使用氨9、10、14、35从芯片上切开,然后通过隔夜将含DNA的氨溶液加热到55°C,进一步取消保护。然而,使用氨回收DNA库与RNA不相容。基底上的RNA寡核苷酸可以使用上述相同的EDA/苯基体程序从表面洗脱,但只能在E3N和hydrazine两步消除保护策略28之后的倒数第二阶段。
从微阵列中回收寡核苷酸池的替代策略,无需特定的基本处理,原则上与光刻学相容,并依赖于酶的使用。例如,单个脱氧核苷酸是尿素-DNA糖基酶(UDG)的目标,并从DNA序列的其余部分切除,或者单个RNA单位可以通过RNase H型2型酶和磷脂粘结5’到RNA分离,释放5’DNA部分23。
我们现在拥有一种强大、可靠和高密度的合成DNA、RNA和混合DNA/RNA微阵列的方法。它们不仅可用作杂交或结合测定36的平台,而且代表了一种快速而廉价的方式来生成复杂的核酸库。对于基于 DNA 的数字数据存储,微阵列光刻学可能成为解决”写入”瓶颈(即通过合成对信息进行编码)的潜在解决方案。DNA和de novo基因组装数字编码的成功取决于序列保真度,在合成水平上,序列保真度转化为误差率。我们当前阵列制造协议中的合成和光学误差将在其他地方进行讨论和报告。与此同时,目前正在努力进一步提高制造规模和产量。
The authors have nothing to disclose.
这项工作得到了奥地利科学基金(FWF赠款P23797、P27275和P30596)和瑞士国家科学基金会(格兰特#PBBEP2_146174)的支持。
Slide functionalization | |||
Acetic acid >99.8% | Sigma | 33209 | For RNA deprotection |
CNC router | Stepcraft | 300 CK | |
Ethanol absolute | VWR | 1.07017.2511 | For deprotection and functionalization |
N-(3-triethoxysilylpropyl)-4-hydroxybutyramide | Gelest | SIT8189.5 | Silanizing reagent |
Nexterion Glass D microscope slides | Schott | 1095568 | |
Polymax 1040 | Heidolph | Orbital shaker | |
Proclean 507 Ultrasonic water bath | Ulsonix | To clean slides after drilling | |
Tickopur RW 77 Special Purpose Cleaner | Sigma | Z860086 | To clean slides after drilling |
Microarray synthesis | |||
0.25 M dicyanoimidazole in ACN | Biosolve | 0004712402BS | Activator |
0.7 XGA DMD | Texas Instruments | Digital Micromirror Device | |
20 mM I2 in pyridine/H2O/THF | Sigma | L860020-06 | Oxidizer |
250 μm thick Chemraz 584 perfluoroelastomer | FFKM | Lower teflon gasket | |
2'-O-ALE RNA phosphoramidites | ChemGenes | ||
365 nm high-power UV-LED | Nichia | NVSU333A | |
5'BzNPPOC DNA phosphoramidites | Orgentis | ||
5'NPPOC DNA phosphoramidites | FlexGen | ||
Acetonitrile | Biosolve | 0001205402BS | For DNA synthesis |
Amidite Diluent for DNA synthesis | Sigma | L010010 | For dissolving phosphoramidites |
Cleavable dT | ChemGenes | Base-sensitive monomer for library preparation | |
DMSO | Biosolve | 0004474701BS | As exposure solvent |
DNA and RNA microarray deprotection | |||
Ethylenediamine >99.5% | Sigma | 3550 | For deprotection |
Expedite 8909 | PerSeptive Biosystems | DNA synthesizer | |
Hydrazine hydrate 50-60% hydrazine | Sigma | 225819 | For RNA deprotection |
Imidazole | Sigma | 56750 | |
Industrial Strength lower-density PTFE tape | Gasoila | Thin, upper teflon gasket | |
Pyridine >99% | Sigma | P57506 | For RNA deprotection |
Triethylamine >99% | Sigma | T0886 | For RNA deprotection |
β-carotene | Sigma | C9750 | For library preparation |
Hybridization and scanning | |||
20x Sodium Saline Citrate | Roth | 1054.1 | |
5'Cy3-labelled complementary strand | Eurogentec | For duplex hybridization | |
Biopur Safe-Lock microcentrifuge tube | Eppendorf | ||
BSA (10 mg/mL) | Promega | R3961 | |
EDTA molecular biology grade | Promega | H5031 | |
GenePix 4100A | Molecular Devices | Microarray scanner | |
Hybridization oven | Boekel Scientific | 230500 | |
MES monohydrate | Sigma | 69889 | |
MES sodium | Sigma | M3058 | |
NaCl >99.5% | Sigma | 71376 | |
SecureSeal SA200 hybridization chamber | Grace BioLabs | 623503 | |
Spectrafuge mini | Labnet | C1301 | Microarray centrifuge |
Tween-20 molecular biology grade | Sigma | P9416 | |
Data extraction | |||
Excel | Microsoft | For data extraction | |
MatLab | MathWorks | Microarray design | |
NimbleScan 2.1 | Roche NimbleGen | ||
Desalting and quantification | |||
NanoDrop One Spectrophotometer | Thermo Scientific | ||
Toluene | Merck | ||
ZipTip C18 | Millipore | ZTC18s008 | Desalting pipet tips |