Tillämpningen av stödskikt på kryogena elektronmikroskopinät (cryoEM) kan öka partikeltätheten, begränsa interaktioner med luft-vattengränssnittet, minska strålinducerad rörelse och förbättra fördelningen av partikelorienteringar. Denna artikel beskriver ett robust protokoll för att belägga kryoEM-rutnät med ett monolager av grafen för förbättrad kryoprovberedning.
